Hafnium(IV)-oxid

Kristallstruktur
__ Hf4+ __ O2−
Allgemeines
Name	Hafnium(IV)-oxid
Andere Namen	Hafniumdioxid
Verhältnisformel	HfO2
CAS-Nummer	12055-23-1
Kurzbeschreibung	farbloser Feststoff[1]
Eigenschaften
Molare Masse	210,49 g·mol−1
Aggregatzustand	fest
Dichte	9,68 g·cm−3 [1]
Schmelzpunkt	2812 °C [1]
Siedepunkt	5400 °C [1]
Dampfdruck	gering [1]
Löslichkeit	unlöslich in Wasser [1]
Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung [1] keine GHS-Piktogramme H- und P-Sätze H: keine H-Sätze P: keine P-Sätze [1]
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen.

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Hafniumdioxid ist eine chemische Verbindung aus den Elementen Hafnium und Sauerstoff. Es gehört zur Stoffklasse der Oxide. Verwendet wird es in der Halbleiterproduktion als High-k-Dielektrikum oder als Vergütungs- oder Spiegelmaterial in der optischen Industrie. Es besitzt eine hohe Härte, eine geringe Wärmeausdehnung und ist chemisch Zirkoniumdioxid (ZrO₂) sehr ähnlich.

Eigenschaften und Verwendung

Hafnium(IV)-oxid

Hafniumdioxid ist in reinem Zustand ein weißes, mikrokristallines Pulver mit monokliner Kristallstruktur^[2], das einen sehr hohen Schmelz- und Siedepunkt, sowie eine Dichte von 9,68 g·cm⁻³ aufweist. Die Brechzahl beträgt 1,95 bis 2,00. Das Oxid ist praktisch unlöslich in Wasser und organischen Lösungsmitteln. Aufgrund seiner gegenüber Siliciumdioxid erhöhten Dielektrizitätskonstante sah man Hafniumdioxid als Werkstoff an, der z.B. bei der Produktion von Halbleiterbausteinen mit 45 nm-Struktur das bisher verwendete Siliciumdioxid ersetzen könnte^[3]

Einzelnachweise