Neutron Transmutation Doping

Neutron Transmutation Doping (NTD, ins deutsche übersetzt etwa: Neutroneninduzierte Umwandlungsdotierung) ist ein Verfahren, um in Silizium höchst homogene Phosphordotierungen zu erreichen. Dazu wird das Silizium mit thermischen Neutronen beschossen. Es ergibt sich folgende Kernreaktion:

$ {}^{30}\mathrm {Si} +\mathrm {n} \rightarrow {}^{31}\mathrm {Si} \xrightarrow {\beta ^{-}-\mathrm {Zerfall} } {}^{31}\mathrm {P} +\beta ^{-}+{\bar {\nu }} $

Das stabile Isotop $ {}^{30}\mathrm {Si} $ tritt in der Natur mit einem Anteil von 3,1 % auf. Daher kann mit der NTD-Methode eine hohe Phosphordotierung von bis zu $ 10^{20}\mathrm {cm} ^{-3} $ erreicht werden.

Literatur

• Rolf Sauer: Halbleiterphysik: Lehrbuch für Physiker und Ingenieure. Oldenbourg, 2009, ISBN 348658863X.